高精密平面研磨和拋光是利用自由散粒磨料在工件被加工面及磨盤(pán)基面上相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使工件表面變得非常高的平整度及光滑度，工件固定不需要強(qiáng)夾、真空、磁鐵，只需自然地放置在磨盤(pán)上，基本上能適合加工任何金屬和非金屬材料的工件，沒(méi)有了強(qiáng)制性的裝夾及一般磨床的剛性磨削，減少的了沖擊及發(fā)熱產(chǎn)生的次生變形，更用利于高精度和高光潔度的加工。即使一個(gè)沒(méi)有經(jīng)驗(yàn)的操作員也可以輕易獲得******0.2um的平面度及Ra0.02um粗糙度。

平整度:工件的平整度取決于磨盤(pán)的平整度。隨著加工領(lǐng)域的不斷深化及精度和效率要求越來(lái)越高：“金實(shí)力”從鑄鐵盤(pán)、合成盤(pán)、銅盤(pán)、純錫盤(pán)、樹(shù)脂盤(pán)發(fā)展到金剛石盤(pán)，并通過(guò)各種方法把盤(pán)的平面訂修到******達(dá)2um。

粗糙度：表面粗糙度取決于磨料顆粒的大小、形狀和磨盤(pán)的材料， 以及工件材質(zhì)及硬度。

粗磨：利用較粗顆粒度的磨料在磨盤(pán)與工件面上磨削，進(jìn)刀量大、效率高；但磨削面較粗，適用于磨削余量較多之工作。

中磨：利用中度顆粒的磨料在磨盤(pán)與工件面上磨削，進(jìn)刀量快、效率高，表面粗糙度適中，適合磨削量一般之工件。

精磨：利用較細(xì)顆粒度的磨料在磨盤(pán)中與工件面上磨削，進(jìn)刀量較小、表面光潔度好，磨削痕均勻而細(xì)。

軟拋光：利用磨盤(pán)上加裝一個(gè)特殊材料拋光墊或拋光布，拋光料在拋光墊或拋光布之間運(yùn)動(dòng)，使工件比硬拋光更有超鏡子一樣的高光潔度。

拋光：利用合成盤(pán)、銅盤(pán)、錫盤(pán)、樹(shù)脂盤(pán)等非常高精密度的基面加入微米級(jí)金剛石磨料，使工件表面變得既高精密平面度，又有像鏡子一樣的高光潔度。